GCCD02B（雙動態(tài)450幅面，尺寸定制）
特點：
1.支持32寸以上觸控面板蝕刻, 定制加工尺寸
2. 三維動態(tài)聚焦蝕刻機工作時，第三軸根據(jù)加工位置實時移動，大幅面加工幅面內(nèi)激光蝕刻線性均勻度更高；
3. 雙振鏡加工，速度快，效率高；
4.單次加工幅面450mmx890mm，線寬可達到35μm
優(yōu)勢：
1.動態(tài)聚焦可有效解決材料印刷偏位問題，提升良率；
2.可實現(xiàn)異形排版單料糾偏；
3.單次加工幅面大，無需多次拼接，提升精度；
4.相比非動態(tài)設(shè)備，加工速度更快
5.可配備自動上下料系統(tǒng)
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加工對象 |
電容屏 |
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加工材料 |
銀漿、ITO、CNT、石墨烯等 |
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蝕刻材料厚度/蝕刻線寬 |
35μm ~45μm （視具體材料材質(zhì)與膜厚及膜厚均勻度而定） |
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線性度 |
±3μm |
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綜合定位精度 |
±10μm（排除材料印刷誤差） |
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重復(fù)加工精度 |
±2μm |
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拼接精度 |
±5μm |
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工作平臺面積 |
定制 |
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有效加工面積 |
定制 |
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定位方式 |
雙CCD自動定位 |
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加工速度 |
≤4500 mm/s（視具體材料而定） |
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最大單PCS加工范圍 |
450 mm×890 mm（據(jù)實際線寬要求而定） |
